薄膜生长过程原位动态特性监测教学实验装置

产品介绍
薄膜制备及特性测量系列教学实验仪器是北京科技大学应用科学学院物理系教师将科研仪器向教学仪器转化的成果，适用于高等院校教学实验用，是集科研、演示、教学于一体的多功能实验仪器，是国家专利产品，并在国内首次被应用于大学工科物理和理科物理实验教学。本系列实验仪器既适用于实验教学也可用于科研开发。特别是在物理实验教学上，用其编排的实验内容丰富新颖、适用面广、扩展性强。使学生亲身感受到物理实验在当今高科技中的应用，同时培养学生的科学素质和实验技能。
本实验仪器和实验内容已通过国家工科基础教程教学基地验收并受到专家们的一致好评；并通过了教育部科学技术成果鉴定，在2004年在第三届全国高校物理实验教学仪器评比中荣获一等奖。
薄膜生长过程原位动态特性监测教学实验装置
薄膜生长过程原位动态特性监测仪采用只留溅射法制备薄膜，在镀膜过程中通过对薄膜电阻的动态监测，观察薄膜生长的物理过程。可以在背景真空度约2Pa左右的条件下，完成离子溅射镀膜及金属薄膜生长过程原位动态特性的监测实验。还可作为扫描电镜样品镀膜及金属电极镀膜基本设备。同时，若适用在衬底基片上预先镀制的低电阻测量四接头电极并接通恒流源，便可利用数字电表在镀膜过程中，瞬态、原位测量薄膜的导通电压、电阻阻值随沉积时间的变化规律，或通过计算机进行检测信号的自动采样、瞬态监测于数据处理。由实验结果可以清楚地观察到薄膜形成过程中，随着薄膜成核、网状导通、薄膜厚度的增加等变化，其电压和电阻值与沉积时间的关系，通过宏观物理量的变化反映出微观薄膜物理性能与薄膜生长过程的对应关系。
该仪器具有体积小、实验现象明显直观、操作简单方便、性能稳定、实验周期短等特点，做到了镀膜仪器的低成本化，集教学科研为一体。
用途：
（1） 动态监测溅射镀膜过程中基片上两电极间电压变化（反映出薄膜生长的规律）；
（2） 动态监测金属薄膜电阻随镀膜时间的变化；
（3） 制备金属薄膜（如金银薄膜等）；
（4） 制作扫描电子显微镜样品镀覆导电膜；
仪器组成：
薄膜生长过程原位动态特性监测教学实验装置由真空镀膜设备、精密直流电源及直流数字电压表和直流数字电流表三部分组成。
1、 真空镀膜设备（包括直流溅射仪、机械泵）
由真空控制（真空度约2Pa左右）、离子溅射及测量三部分组成。
2、 精密直流电源
输出电压0~30V、输出电流0~2A在范围内可调。
3、 直流数字电压表及直流数字电流表