MYCRO韩国产 数控涂层机SPIN1200D

MYCRO韩国制造的桌面型高精度数控匀胶涂层系统SPIN1200D，是转为实验室项目研发设计的。适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺，可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。

通过调整胶液的粘度，转速和旋转时间，涂层薄膜的厚度范围从1000埃到100um自由控制。
特点：
*可用于光刻胶，聚合物，metallo-organics,dopants,silica films and most 有机或者aqueous溶液；
*由PLC控制的可编程操作；
*基于可选择转速值和旋转时间可以方便计算加减速度；
*通过前面操作面板和显示屏，可以方便选择多种镀膜功能。

SPIN1200D参数表：
基底尺寸：小片至4英寸基片；
腔体：8英寸（铝阳极氧化膜保护层）
真空泵：无油真空泵
旋涂状态设定：可以设置50步加减速过程，同时可存储20个不同材料的旋涂过程；
旋涂转速：最大至7000转/分；
加速值：最大至3000转/分；
旋转马达：直流伺服马达；

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