用途：
该X射线晶体分析仪，主要用于研究物质内部微观结构。如：单晶定向、检验缺陷、物质定性、测定点阵参数、测定残余应力等。
主要参数：
电 源：AC220V 50HZ 30A
功 率：2KW
靶 材：Cu（可选其他靶材）
管电压：50KV（分档可调）
管电流：50mA（分档可调）
稳定度：±1%
保 护：过功率、过电压、过电流、无水
冷 却：循环水、制冷水箱
防 护：铅有机玻璃防护罩
相 机：
a)德拜相机（粉沫相机）大、小两种
b)劳厄相机（平板相机）
上述两种相机，用户可自选配置
X射线晶体分析仪