仪器介绍
K950X高真空蒸镀仪在使用碳棒蒸镀时可给出连续的碳膜，并且使用涡轮分子泵时无污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的导电涂层。 在厚度为2nm (20埃)或更厚时膜是连续的。最通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到最大电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4 mbar或更高的真空度。 涡轮分子泵在K950X中作为标准配置，此泵作为机械真空泵的后级泵，真空为全自动控制，真空度优于1x10-5 mbar。可进行预热及除气控制，同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。 标准的旋转样品台可进行倾斜调节，非常容易适应各种样品座。可选的样品台具有特殊的凹槽，可放置标准的载玻片，这在“石棉分析”需要镀碳层时尤为有利。 碳棒头在仪器中作为标准件。这是一个“快速释放头”，使用户在选择金属蒸发附件、碳丝及光阑清洗头时可方便地更换。放气系统具有互锁装置，避免样品受到干扰。涡轮分子泵可安装在任何轴上，并且可安全地“关闭”直接通大气。
主要特点
● 全自动抽气系统
● 旋转样品台
● 菜单驱动式“用户”键盘输入
● 快速释放头方便选择不同的头
● 约束的排气控制
● 涡轮分子泵抽真空
● 容易操作
● 均匀的样品涂层
● 方便多用户操作
● 可用于蒸碳及蒸镀金属
● 在排气过程中可防止样品损坏
● 碳棒或碳丝蒸发
技术参数
仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量：28Kg工作腔室：硼硅酸盐玻璃165mm Dia x 125mm H安全钟罩：聚碳酸酯铝机座：110mm Dia x 115mm H碳 源：直径3.2mm碳棒旋转样品台：直径为60 mm，倾斜0-90o
到电极距离为110mm 到 130mm真空计范围：ATM - 1x10-5 mbar操作真空：1x10-2 to 1x10-5 mbar安培计：0-50 Amps低电压选择：0-5V-15V-25V除气电流：0-25 Amps涡轮分子泵：50L/Second Services -Argon - Nominal 4psi. Rotary Backing Pump -Two Stage Vacuum Pump No. 2, 35L/Min
complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter. 2m3/Hr电源：230V 50Hz (包括泵最大电流8 安培)；115V 60Hz(包括泵最大电流16 安培)
高真空蒸镀仪